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膜厚及不均勻性

設(shè)備：膜厚儀F50-XT/ F50-UV

廠商：FILMETRICS

用途：依靠F50的光譜測(cè)量系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以非常快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度。

技術(shù)指標(biāo):

l 最大適用4英寸晶圓測(cè)試，最大測(cè)試范圍0-10um

l 測(cè)量n和k值最小厚度要求：50nm

l 波長(zhǎng)范圍：190-1100nm

l 準(zhǔn)確度：0.2%或1nm

l 精度：0.02nm

l 穩(wěn)定性:0.05nm